8.1一般规定

8.1.1  由于电子工业各行业生产工艺用纯水的水质、制备工艺和纯水用量等设计指标，以及纯水站规模、过程测量与控制需求情况等不尽相同，应结合各行业纯水站特点、规模和监控功能的具体要求，设计与合理选配各类制水设备、监控系统和现场测量仪器仪表。

8.1.3  根据各行业纯水站制备工艺及其制水设备与介质输送系统配置和控制功能，设计确定纯水制备过程测量与控制技术条件，选择监控系统及其外部设备的配置。本条文中所称的介质是指水系统中原水、纯水、中水、热(冷)媒水及工艺用液体化学品等。

8.1.4  现场仪表包括常用的液位、流量、压力、温度传感器及其显示与控制仪表，应视各行业纯水站监控参数、部位及具体要求，设计选配现场仪表。