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Discuz! Board › 资源 ›消防规范› 多晶硅工厂设计规范 GB51034-2014 › 查看内容

5 工艺设计

2024-12-6 14:52| 发布者: MArtian| 查看: 45| 评论: 0

摘要: 5.1 一般规定5.2 三氯气硅合成和四氯化硅氢化5.3 氯硅烷提纯5.4 三氯气硅氢还原5.5 还原尾气干法回收5.6 硅芯制备及多晶硅产品后处理5.7 分析检测

5.1 一般规定

5.2 三氯气硅合成和四氯化硅氢化

5.3 氯硅烷提纯

5.4 三氯气硅氢还原

5.5 还原尾气干法回收

5.6 硅芯制备及多晶硅产品后处理

5.7 分析检测

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相关阅读

• 引用标准名录

• 本规范用词说明

• 附录C 主要房间空气洁净度、温度、湿度

• 附录B 地下管线之间的最小水平净距

• 附录A 地下管线与建(构)筑物之间的最小水平净距

• 12.2 生产工艺

• 12.1 一般规定

• 12 节能、余热回收

• 11.3 卫生

• 11.2 安全

• 11.1 环境保护

• 11 环境保护、安全和卫生

• 10.5 空调冷热源

• 10.4 防排烟

• 10.3 空气调节与净化

• 10.2 通风

• 10.1 一般规定

• 10 采暖、通风与空气调节

• 9.5 消防

• 9.4 循环冷却水系统

• 9.3 废水处理

• 9.2 排水

• 9.1 给水

• 9 给水、排水和消防

• 8.6 结构设计

• 8.5 防腐蚀

• 8.4 洁净设计及装修

• 8.3 防火、防爆

• 8.2 主要生产厂房和辅助用房

• 8.1 一般规定

• 8 建筑结构

• 7.7 蒸汽

• 7.6 制冷

• 7.5 纯水制备

• 7.4 导热油

• 7.3 制氢站

• 7.2 制氮站

• 7.1 压缩空气站

• 7 辅助设施

• 6.2 自动化

• 6.1 电气

• 6 电气及自动化

• 5.7 分析检测

• 5.6 硅芯制备及多晶硅产品后处理

• 5.5 还原尾气干法回收

• 5.4 三氯氢硅氢还原

• 5.3 氯硅烷提纯

• 5.2 三氯氢硅合成和四氯化硅氢化

• 5.1 一般规定

• 4.2 厂区规划

• 4.1 厂址选择

• 4 厂址选择及厂区规划

• 3 基本规定

• 2 术语

• 1 总则

• 前言

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