附录C 主要房间空气洁净度、温度、湿度

摘要: 表C 主要房间空气洁净度、温度、湿度 注：腐蚀清洗室主要为生产半导体级多晶硅免洗料设置，在清洗设备上设置层流罩，保证在设备内部空气洁净度达到5级。